【光刻机的操作】

文章插图
光刻机原理 进来看看 1.在光刻机里做芯片的过程基本和“冲洗照片”一样 。假设你在拍一个风景,胶片上会有曝光痕迹 。第一,要在暗室里冲洗,这样风景才能在胶片上显示出来 。然后在红光下,通过放大镜,将胶片上的景物投射到相纸上 , 相纸曝光 。通过对相纸进行显影、定影和干燥,得到最终的照片 。除了风景,“照片冲印”还需要胶片、光源、放大镜和相纸 。
2.对于光刻机来说,所谓的“布景”就是设计好的IC,“胶片”就是用来记录IC的应时板(掩膜版) , “相纸”就是硅片,“放大器”就相当于光刻机 。
3.不同的是,冲洗一张照片时,把小胶片放大到相纸上,缩小光刻机时 , 把电路图缩小到晶片上 。
4.在光刻机领域,有三个国际品牌:荷兰的ASML、日本的尼康和日本的佳能 。然而,在高端光刻机市场,荷兰ASML是无可争议的世界领导者,将第二名远远甩在后面 。尼康和佳能因为技术难度高、投入大 , 已经放弃了EUV光刻机的研发 。
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